Xstream® 遠程電漿源

遠端電漿源

Xstream^® 遠程電漿源

高效能 Xstream^® 遠程電漿源平臺提供自穩定輸送的原料氣體中生成的中性活性種，用於表面改性、反應室清洗潔、薄膜蝕刻以及電漿輔助沉積。

安裝在製程反應室外的 Xstream 平臺整合了遠距電漿源，6 kW 或8 kW 的高效能電源以及已獲得專利的固態主動式匹配網路。該匹配網路在一個反應室清洗源應用上擁有最寬廣的商業化阻抗運行範圍。Xstream 遠程電漿源讓製程工程師在反應氣體製程上擁有無與倫比卓越的反應氣體製程靈活性，從而提高了系統生產能量，將昂貴資源的使用率最佳化。

優點	特性
固態板上內建固態主動式匹配網路完全整合式高效400 kHz 電源可選配虛擬前面板 (VFP) 直覺式、即時、基於軟體式的用戶介面低耗水量反應室經過硬式陽極化處理、細微粒、防腐金屬源具備對電漿實際傳送功率供電之先進監測監控電路用於系統整合和監控回授信號	將昂貴資源使用率最佳化提供最寬廣的阻抗運行範圍，最寬的商業化阻抗運行範圍可在各種化學反應下無縫運行，包括現有的 PFC/O2 就地反應室清洗製程提高製程性能、靈活性和生產能量能夠對就地和遠端 VCVD 反應室清洗潔製程進行簡化及改進使用 AE 專利主動式匹配網路技術

AE Xstream 遠端電漿源產品在美國及歐洲不提供銷售服務。

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Xstream^® Remote Plasma Source With Active Matching Network^TM brochure

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