Litmas^® RPS 是唯一採用高傳導、低表面面積結構的完全整合遠端感應式電漿源和供電系統。非常適合為晶圓預清洗、光阻剝離和原子層沉積 (ALD) 等製程提供反應氣體。此外，其大功率密度和高傳導性使其成為後處理廢氣處理的理想平臺。

Litmas RPS 可在不到3毫秒的時間內提供高達3 kW 的穩定射頻功率，從而能夠實現變化更快的低於90 nm 的300 mm 製程。

優點	特性
減少了對易損設備結構的電荷損傷 高反應物焊劑生成 廣泛的製程化學範圍 快速匹配、穩定的供電 持有成本降低 增強終端用戶製程開發和輸出量	整合式電源、匹配和電漿腔室 獲得專利的 LitmasMatch™ 固態供電拓撲結構 即插即用的安裝 極其廣泛的匹配範圍 耐用的 SiO2 或 Al2O3 腔體材料 小尺寸 最高的電漿功率密度 腔體與腔體之間的變化極小