遠端電漿源
Photo of Litmas RPS 1501 and 3001 remote plasma source platform
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Litmas® RPS 1501和3001遠程電漿源平臺

Litmas® RPS 是唯一採用高傳導、低表面面積結構的完全整合遠端感應式電漿源和供電系統。非常適合為晶圓預清洗、光阻剝離和原子層沉積 (ALD) 等製程提供反應氣體。此外,其大功率密度和高傳導性使其成為後處理廢氣處理的理想平臺。
Litmas RPS 可在不到3毫秒的時間內提供高達3 kW 的穩定射頻功率,從而能夠實現變化更快的低於90 nm 的300 mm 製程。
優點 特性
  • 減少了對易損設備結構的電荷損傷
  • 高反應物焊劑生成
  • 廣泛的製程化學範圍
  • 快速匹配、穩定的供電
  • 持有成本降低
  • 增強終端用戶製程開發和輸出量
  • 整合式電源、匹配和電漿腔室
  • 獲得專利的 LitmasMatch™ 固態供電拓撲結構
  • 即插即用的安裝
  • 極其廣泛的匹配範圍
  • 耐用的 SiO2 或 Al2O3 腔體材料
  • 小尺寸
  • 最高的電漿功率密度
  • 腔體與腔體之間的變化極小


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