Advanced Energy 的 E'Wave^® 雙極脈衝直流電源改善了表面均勻性，減少了雙鑲嵌製程流程 (dual-damascene process flow, DDPF) 應用的鍍銅階段之附加消耗，包括在生產環境和銅製程開發中的晶圓電鍍。E'Wave 電源提供多達三個通道，每個都有一個獨立驅動的雙極電源，能夠生成、儲存和運行多達15個由電流控制或由電壓控制的波形。