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Small-capacity Aera® AS series thermal vaporizer systems for liquid chemistry sources such as TEOS, SiCl4, CH3SiCl3, and TiCl4. Precise, accurate liquid vapor flow. Easy integration. Enhanced process efficiency. Streamlined design.
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Aera® AS-71 集熱式蒸發器系統

Aera® AS-71 熱蒸發器系統具有工業領先 可靠性和流動穩定的特性,因而顯著提高了膜的
均勻度並明顯延長了系統的正常運作時間。與需要恒定的 再填充壓力並且要經常維護的設備不同,AS-71C 蒸發器 僅需極低的保養即可穩定地提供汽化 TEOS、SiCI4、HCD 以及其他前體物質,並且不需要經常監控 再填充壓力。該蒸發器理想的流量為 300 sccm, 最高流量可達 600 sccm。
Aera AS-71C 蒸發器整合了領先的熱處理室和 MFC 技術,其傑出的設計和製造品質正符合您 選擇 Aera 產品時所期望的。這是一個 具有高可靠度而且維護要求極低的系統;可以延長正常運作時間, 提高製程可重複性以及膜的均勻度,非常適合半導體、FPD 以及其他需要很高的蒸氣輸送穩定性的進階應用。
 
優點 特性
  • 實現高度一致且可重複的膜特性
  • 促進製程創新
  • 延長製程正常運作時間並提高產量
  • 降低材料成本和製程的複雜性
  • 提高易用性
  • 工業領先的蒸氣流穩定性
  • 熱蒸發方法 — 固有的穩定性和復原
  • 效能,維護要求極低
  • 極高的可靠性 —超過 20 年可靠的現場
  • 運作
  • 整合高溫 Aera MFC
  • 可選控制面板和自動再填充系統,提高了
  • 易用性
  • 電解拋光的超淨氣體接觸表面


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