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®
AS-71 集熱式蒸發器系統
Aera
®
AS-71 熱蒸發器系統具有工業領先 可靠性和流動穩定的特性,因而顯著提高了膜的
均勻度並明顯延長了系統的正常運作時間。與需要恒定的 再填充壓力並且要經常維護的設備不同,AS-71C 蒸發器 僅需極低的保養即可穩定地提供汽化 TEOS、SiCI4、HCD 以及其他前體物質,並且不需要經常監控 再填充壓力。該蒸發器理想的流量為 300 sccm, 最高流量可達 600 sccm。
Aera AS-71C 蒸發器整合了領先的熱處理室和 MFC 技術,其傑出的設計和製造品質正符合您 選擇 Aera 產品時所期望的。這是一個 具有高可靠度而且維護要求極低的系統;可以延長正常運作時間, 提高製程可重複性以及膜的均勻度,非常適合半導體、FPD 以及其他需要很高的蒸氣輸送穩定性的進階應用。
優點
特性
實現高度一致且可重複的膜特性
促進製程創新
延長製程正常運作時間並提高產量
降低材料成本和製程的複雜性
提高易用性
工業領先的蒸氣流穩定性
熱蒸發方法 — 固有的穩定性和復原
效能,維護要求極低
極高的可靠性 —超過 20 年可靠的現場
運作
整合高溫 Aera MFC
可選控制面板和自動再填充系統,提高了
易用性
電解拋光的超淨氣體接觸表面
文獻下載
Aera AS-71C Thermal Vaporizers data sheet
Mass Flow Control Fundamentals and Troubleshooting data sheet
Digital Mass Flow Controllers (2005) white paper
Fundamentals of Mass Flow Control (2005) white paper
Revised Conversion Factor (2002) white paper
Considerations In the Selection of Vapor Delivery Sub-Systems, March/April 2008 magazine reprint
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